德国MLase激光器运行成本低 公司简介： MLase一直致力于开发和生产创新和高质量的激光和光系统，这是高度专业化的专家团队多年经验的结果。MLase AG为客户提供优质的产品，同时考虑到最新的技术方面。

德国OWIS过滤器支架安装直径为 30 mm 公司简介： 这就是OWIS所代表的。我们广泛的光束处理系统、光机械组件以及手动和电动定位器产品组合为您提供模块化系统，以实现您在光子学中的应用或实验室设置。 这也适用于真空应用。OVIS真空系列专为高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而设计。在 XHV 中，压力范围为 10-11MBAR

OWIS旋转平台孔径20 mm 同步齿形带传动 公司简介： 这就是OWIS所代表的。我们广泛的光束处理系统、光机械组件以及手动和电动定位器产品组合为您提供模块化系统，以实现您在光子学中的应用或实验室设置。 这也适用于真空应用。OVIS真空系列专为高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而设计。在 XHV 中，压力范围为 10-11MBAR

德国OWIS测量台测量范围 5 mm 孔径10 mm 公司简介： 这就是OWIS所代表的。我们广泛的光束处理系统、光机械组件以及手动和电动定位器产品组合为您提供模块化系统，以实现您在光子学中的应用或实验室设置。 这也适用于真空应用。OVIS真空系列专为高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而设计。在 XHV 中，压力范围为 10-11MBAR

德国OWIS镜面支架K25系列用于 SYS 40 公司简介： 这就是OWIS所代表的。我们广泛的光束处理系统、光机械组件以及手动和电动定位器产品组合为您提供模块化系统，以实现您在光子学中的应用或实验室设置。 这也适用于真空应用。OVIS真空系列专为高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而设计。在 XHV 中，压力范围为 10-11MBAR

德国OWIS系统导轨反射差 黑色阳极氧化 公司简介： 这就是OWIS所代表的。我们广泛的光束处理系统、光机械组件以及手动和电动定位器产品组合为您提供模块化系统，以实现您在光子学中的应用或实验室设置。 这也适用于真空应用。OVIS真空系列专为高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而设计。在 XHV 中，压力范围为 10-11MBAR

Hellma光学元件用于激光技术等领域 公司简介： Hellma是光学分析集成解决方案的独立供应商，也是玻璃、石英玻璃和光学晶体光学精密产品的制造商。 来自全球光子学和分子光谱学领域的客户欣赏Hellma产品，因为它们具有高的质量和可靠性。 自 1922 年以来，Hellma 这个名字一直代表着用于光学应用的玻璃、石英和晶体加工的品质和精度。今天，这种能力为光子学和分析领域的光学应用

Hellma晶体材料氟化钙用于红外应用 公司简介： Hellma是光学分析集成解决方案的独立供应商，也是玻璃、石英玻璃和光学晶体光学精密产品的制造商。 来自全球光子学和分子光谱学领域的客户欣赏Hellma产品，因为它们具有高的质量和可靠性。 自 1922 年以来，Hellma 这个名字一直代表着用于光学应用的玻璃、石英和晶体加工的品质和精度。今天，这种能力为光子学和分析领域的光学应用

Hellma流动比色皿130系列稳定性高 公司简介： Hellma是光学分析集成解决方案的独立供应商，也是玻璃、石英玻璃和光学晶体光学精密产品的制造商。 来自全球光子学和分子光谱学领域的客户欣赏Hellma产品，因为它们具有高的质量和可靠性。 自 1922 年以来，Hellma 这个名字一直代表着用于光学应用的玻璃、石英和晶体加工的品质和精度。今天，这种能力为光子学和分析领域的光学应用

Hellma可拆卸比色皿106系列精度高 公司简介： Hellma是光学分析集成解决方案的独立供应商，也是玻璃、石英玻璃和光学晶体光学精密产品的制造商。 来自全球光子学和分子光谱学领域的客户欣赏Hellma产品，因为它们具有高的质量和可靠性。 自 1922 年以来，Hellma 这个名字一直代表着用于光学应用的玻璃、石英和晶体加工的品质和精度。今天，这种能力为光子学和分析领域的光学应用