德国ADL离子源电源GG 12 Beam用于微电子

德国ADL离子源电源GG 12 Beam用于微电子

公司简介：

ADL Analoge & Digitale Leistungselektronik GmbH是一家开发和制造商，生产电源和发电机，以及用于特殊工业应用和研究机构的电力电子设备。

ADL 溅射技术在产品和镀膜设计方面拥有 30 多年的经验和专业知识。这种专业知识使 ADL 成为各种薄膜涂层合作伙伴 - 用于显示器、箔、玻璃、硬涂层、工具、装饰表面、微电子等等。

产品介绍：

离子源电源GG 12 Beam 

产品特点：

在离子束和等离子体工艺技术中的广泛应用

蚀刻、溅射等等

创新应用，例如微电子、光学和传感器

工业生产领域

镀膜工艺：在光学镀膜、硬质涂层等工业镀膜过程中，ADL GG 12 Beam 为离子源提供稳定的电力，使离子能够均匀地轰击靶材，实现高质量的薄膜沉积。这种高质量的镀膜可以提高产品的耐磨性、耐腐蚀性、光学性能等，广泛应用于眼镜镜片、刀具、汽车零部件等产品的表面处理。

半导体制造：在半导体芯片制造过程中，用于离子蚀刻、离子注入等关键工艺。通过精确控制离子源的参数，实现对芯片结构的高精度加工和掺杂，确保芯片的性能和可靠性。例如，在芯片的光刻工艺之后，利用离子蚀刻技术可以精确地去除不需要的半导体材料，形成复杂的电路结构；而离子注入则可以精确地控制半导体中的杂质浓度，从而调节晶体管的性能。

型号列表：

GG 03 Accelerator    09Z001

GG 03.1 Accelerator   09Z002

GG 08 Accelerator      09Z005

GG 12 Beam                09Z011

GG 12.1 Beam             09Z012

德国ADL离子源电源GG 12 Beam用于微电子