SUSS LABSPIN 8TT台式旋涂显影设备 一体式

SUSS  LABSPIN 8TT台式旋涂显影设备 一体式

公司简介：

    SUSS MicroTec SE 是 1949 年创立、总部位于德国加兴的上市精密设备企业，拥有 70 余年微加工设备研发制造经验。产品分为先进封装、光掩模处理两大体系，覆盖晶圆键合、曝光、涂显、掩模清洗全流程工艺设备。设备广泛用于算力芯片封装、功率器件、传感器、光电子元器件量产，同时服务高校与科研院所微纳加工研发。

产品介绍：

一 SUSS  LABSPIN 8TT台式旋涂显影一体机

技术参数：

转速范围50 - 8,000 rpm （使用200mm卡盘时精度为 ±1 rpm）

最大加速度最高 4,000 rpm/s （可编程调节）

工艺配方最多可存储 200 个配方，每个配方支持 40 个步骤

单步时间1 - 999 秒，可编程设定

控制系统彩色触摸屏图形界面

电机类型无刷EC电机，空心轴设计，集成透明液体分离器

产品功能特点：

旋涂与显影一体化：不仅用于标准旋涂，还可配置为浸润式显影平台，支持显影液点胶、去离子水冲洗和氮气干燥，完成完整的光刻工艺流程。

灵活的模块化选配：提供从手动注射器到全自动的点胶系统，并可选配边缘珠去除（EBR） 和边缘涂胶功能，满足不同工艺需求。

工艺腔体设计：配备可拆卸的工艺碗和防溢流腔体，便于快速清洁和更换化学品，避免交叉污染。

安全与便捷：内置文丘里真空发生器，无需额外真空泵即可吸附基板。同时具备数字真空表、开盖联锁等安全功能

应用场景：

半导体光刻工艺：用于6英寸及以下晶圆的正负性光刻胶均匀涂覆，是逻辑芯片、功率半导体等工艺研发的核心设备。

MEMS与微纳器件：在MEMS传感器、微流控芯片等制造中，用于制备绝缘膜、钝化膜等功能薄膜。

新材料与聚合物研究：适用于SU-8、PMMA等厚胶或特殊聚合物的工艺开发和薄膜沉积。

光电与化合物半导体：用于LED、激光芯片等器件的增透膜、保护胶涂覆

型号列表：

SUSS  LABSPIN 8

SUSS  LABSPIN 8TT

SUSS  LABSPIN 6

SUSS  LABSPIN HP8

SUSS  LABSPIN HP8TT

SUSS  LABSPIN CP8

SUSS  LABSPIN VP8

SUSS  LABSPIN RCD8

SUSS  LABSPIN MCS8

SUSS  LABSPIN ECD8

SUSS  DSM8 Gen2

SUSS  DSM200 Gen2 

SUSS  MJB4 

SUSS  NIL-SFT8

SUSS  NIL-SFT12 

SUSS  MABA 6/8 Gen4

SUSS  MA12 Gen3 

SUSS  MA100 / 150e Gen2  

SUSS  MA200 Gen3

SUSS  MA300 Gen3 

SUSS  DSC300 Gen3 

SUSS  XB8 

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