德国SUSS LABSPIN HP8TT台式光刻热板

德国SUSS LABSPIN HP8TT台式光刻热板

公司简介：

SUSS MicroTec SE 是 1949 年创立、总部位于德国加兴的上市精密设备企业，拥有 70 余年微加工设备研发制造经验。产品分为先进封装、光掩模处理两大体系，覆盖晶圆键合、曝光、涂显、掩模清洗全流程工艺设备。设备广泛用于算力芯片封装、功率器件、传感器、光电子元器件量产，同时服务高校与科研院所微纳加工研发。

产品介绍：

一SUSS  LABSPIN HP8TT台式光刻热板

基板适配规格：

圆形晶圆：2~200mm（8 英寸）标准硅片、化合物衬底；

方形基板：最大 6×6 英寸玻璃、陶瓷、光学基片；

标配三点升降顶针结构，可夹持薄片、碎片、翘曲样品。

技术参数：

基板兼容性最大200mm（8英寸）圆形晶圆，兼容6英寸方形基板

温控范围室温至 250℃

温控精度例如 ±0.5℃ @ 120℃

工艺编程可存储多达 200个配方，每个配方最多 40个步骤

核心设计三点式升降顶针（方便取放晶圆）、独立触控屏、可选氮气吹扫模块

配套适配关系:

设备外观、占地尺寸、控制系统逻辑与 LabSpin 6TT/8TT 匀胶机统一，二者可组成完整台式光刻工艺单元：旋涂（LabSpin）→前烘（HP8TT）→曝光→显影（LabSpin）→硬烘（HP8TT），无需额外改造工作台。

应用场景：

高校微纳实验室：光刻教学、MEMS 传感器、微流控芯片光刻胶软烘 / 硬烘；

半导体企业研发中心：功率器件、碳化硅、扇出封装光刻工艺验证；

光电子研发：红外芯片、光学薄膜、Mini LED 涂层烘烤试验；

新材料实验：各类聚合物、绝缘薄膜热处理固化测试。

型号列表：

SUSS  LABSPIN 8

SUSS  LABSPIN 8TT

SUSS  LABSPIN 6

SUSS  LABSPIN HP8

SUSS  LABSPIN HP8TT

SUSS  LABSPIN CP8

SUSS  LABSPIN VP8

SUSS  LABSPIN RCD8

SUSS  LABSPIN MCS8

SUSS  LABSPIN ECD8

SUSS  DSM8 Gen2

SUSS  DSM200 Gen2

SUSS  MJB4

SUSS  NIL-SFT8

SUSS  NIL-SFT12

SUSS  MABA 6/8 Gen4

SUSS  MA12 Gen3

SUSS  MA100 / 150e Gen2

SUSS  MA200 Gen3

SUSS  MA300 Gen3

SUSS  DSC300 Gen3

SUSS  XB8

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